Se ha realizado el seguimiento in situ del plasma de una Descarga Magnetron Sputtering R.F., mediante la técnica de Espectroscopía de Emisión Óptica (OES). La descarga (R.F.  a 13.56 MHz), es utilizada para el crecimiento de películas delgadas tipo diamante, sobre substratos de aceros y de Silicio a partir de un blanco de Carbono (99.999 %), en atmósfera de Ar/CH₄. El seguimiento se hizo para diferentes concentraciones de la mezcla. Los espectros de emisión muestran, además de los picos relacionados con las líneas de la serie de Balmer (H_a, H_b, H_g), el pico de emisión a 431.5 nm, de la banda correspondiente a la transición A²D®X²P, que está relacionado con los radicales CH neutros. Los cuales son especies precursoras de enlaces tipo diamante. La relación entre las intensidades de las líneas H_ay H_b del Hidrógeno es una medida del cambio relativo de la temperatura electrónica del plasma que, para las condiciones de nuestro experimento, es del orden de 1 eV y no depende significativamente de la concentración de CH₄ en la mezcla. Sin embargo, la intensidad del pico de emisión a 431.5 nm del CH, decrece con la disminución del porcentaje de Metano.